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硼靶材B磁控溅射靶材

2021-11-10 02:33:01  447次浏览 次浏览
价 格:面议

科研实验专用硼靶材B磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

产品介绍

硼(B)不溶于水,硼为黑色或深棕色,硬度仅次于金刚石,质地较脆,在空气中氧化时由于三氧化二硼膜的形成而阻碍内部硼继续氧化;硼在常温时为弱电导体,而在高温时导电良好。在自然界中主要以硼酸和硼酸盐的形式存在。硼是一种用途广泛的化工原料矿物,主要用于生产硼砂、硼酸和硼的各种化合物以及元素硼,是冶金、建材、机械、电器、化工、轻毛、核工业、医药、农业等部门的重要原料;单质硼用作良好的还原剂,氧化剂,溴化剂,有机合成的掺合材料,高压高频电及等离子弧的绝缘体,雷达的传递窗等。

硼(B)溅射靶可用于半导体,化学气相沉积(CVD)和物相沉积(PVD)显示器和光学应用。

硼是一种黑色的非金属元素,硼化合物用于有机合成,制造特定类型的玻璃和木材防腐剂。除溅射靶材外,我们还可提供硼粉,棒材,片材,箔片,圆片,带材和细丝。

产品参数

中文名 硼 英文名Boron

分子量 10.81 沸点 4000℃

熔点 2076℃ 元素符号 B

CAS登录号7440-42-8 密度 2.46g/cm3

支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!!

服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!

产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备

质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。

加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!

我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。

注意:高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!

建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。

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