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氧化铽靶材Tb2O3磁控溅射靶材

2021-11-10 02:36:01  540次浏览 次浏览
价 格:面议

科研实验专用氧化铽靶材Tb2O3磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

产品介绍

氧化铽(Tb2O3)外观为黑褐色粉末,不溶于水,溶于酸。用于制作金属铽、磁光玻璃、荧光粉、磁光贮存、化工添加剂 等。

产品参数

中文名称:氧化铽

中文别名:七氧化四铽

英文名称:Terbium oxide

CAS号:12037-01-3

分子式:Tb4O7

分子量:747.69700

质量:747.66600

纯度 99.99%

PSA:95.97000

[ 密度 ]: 7.3 g/mL at 25 °C(lit.)

[ 熔点 ]: 2340°C

[ PSA ]: 95.97000

[ 外观性状 ]: 无气味的暗棕色-黑色粉末

[ 储存条件 ]:

常温密闭,阴凉通风干燥

[ 稳定性 ]:

常温常压下稳定避免湿 酸 氧化物.不溶于水,溶于热浓酸。

支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!!

服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!

产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备

质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。

加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!

我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。

注意:高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!

建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。

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